日本的科學(xué)家發(fā)現(xiàn)，透過(guò)施加電場(chǎng)在磁性記憶儲(chǔ)存材料，可以降低寫(xiě)入資料時(shí)需要施加的磁場(chǎng)。這項(xiàng)發(fā)現(xiàn)，有可能被應(yīng)用在制造超高密度的內(nèi)存上。 　　
    在計(jì)算機(jī)及相關(guān)的外圍產(chǎn)品逐漸微小化的趨勢(shì)下，作為內(nèi)存儲(chǔ)存的磁性材料 研究，也走向高密度的方向。然而，由于密度的提高，在單位體積/面積上所需要進(jìn)行資料位儲(chǔ)存的磁場(chǎng)，也隨之提高。磁性材料廠 而因?yàn)楦叽艌?chǎng)的產(chǎn)生有技術(shù)上的困難，使得高密度磁性材料的應(yīng)用，面臨了限制與瓶頸。在本期的ScienceExpress中，日本東北大學(xué)大野實(shí)驗(yàn)室(注)的Daichi Chiba，發(fā)表了利用施加電場(chǎng)，可以降低存取資料所需磁場(chǎng)大小的研究結(jié)果。
    Daichi等人的實(shí)驗(yàn)，是先在攙有錳(Mn)金屬而具鐵磁性的砷化銦(InAs) 上，鍍上一薄層絕緣體與金屬電極，然后再通過(guò)電極對(duì)砷化銦施加電場(chǎng)。他們發(fā)現(xiàn)，當(dāng)施加1.5MV/cm的電場(chǎng)時(shí)，所需要改變磁矩極性(進(jìn)行資料寫(xiě)入)的磁場(chǎng)大小，是未加電場(chǎng)時(shí)的五分之一。這個(gè)發(fā)現(xiàn)，使得高密度磁性材料的研究，又出現(xiàn)了一線希望。不過(guò)，計(jì)劃主持人Hideo Ohno表示，由于他們的實(shí)驗(yàn)是在絕對(duì)溫度30K的低溫下進(jìn)行，其發(fā)現(xiàn)僅能算是初步證實(shí)施加電場(chǎng)的可行性。如果要談到實(shí)際應(yīng)用方面，還得以在室溫下進(jìn)行的實(shí)驗(yàn)來(lái)驗(yàn)證。